涂(tu)層(ceng)測(ce)厚(hou)儀可(ke)無損地測(ce)量(liang)磁(ci)(ci)性(xing)金屬(shu)基體(如(ru)鋼、鐵、合(he)金和硬磁(ci)(ci)性(xing)鋼等(deng))上非(fei)(fei)磁(ci)(ci)性(xing)涂(tu)層(ceng)的厚(hou)度(如(ru)鋁、鉻(ge)、銅、琺瑯(lang)、橡膠、油漆等(deng)) 及(ji)非(fei)(fei)磁(ci)(ci)性(xing)金屬(shu)基體(如(ru)銅、鋁、鋅、錫等(deng))上非(fei)(fei)導電覆層(ceng)的厚(hou)度(如(ru):琺瑯(lang)、橡膠、油漆、塑料(liao)等(deng))。
影響涂層測厚儀的(de)測量因素有哪(na)些
1、基體金屬磁(ci)性質
磁性法測(ce)厚受基(ji)體(ti)金屬磁性變化(hua)的(de)影響(在(zai)實際應(ying)用中，低碳鋼磁性的(de)變化(hua)可(ke)以認為(wei)是輕微(wei)的(de))，為(wei)了避(bi)免熱處理和冷加工因素的(de)影響，應(ying)使用與試(shi)件基(ji)體(ti)金屬具有相同(tong)性質(zhi)的(de)標準(zhun)片對儀(yi)器進行校(xiao)(xiao)準(zhun)；亦可(ke)用待涂覆試(shi)件進行校(xiao)(xiao)準(zhun)
基體(ti)(ti)金屬(shu)電性質 基體(ti)(ti)金屬(shu)的電導率(lv)對測量有(you)影響，而基體(ti)(ti)金屬(shu)的電導率(lv)與其材料(liao)成分及熱處(chu)理方(fang)法(fa)有(you)關(guan)。使用與試件基體(ti)(ti)金屬(shu)具有(you)相同(tong)性質的標(biao)準片對儀(yi)器進行(xing)校準。
2、基體金屬厚度
每一種儀器都有一個基體金屬的臨界厚(hou)(hou)度。大于這個厚(hou)(hou)度，測量就不受基體金屬厚(hou)(hou)度的影響。
3、曲(qu)率
試(shi)(shi)件(jian)的(de)曲率對測(ce)量有影響。這種影響總是隨著曲率半徑(jing)的(de)減少(shao)明顯地增大。因此，在彎曲試(shi)(shi)件(jian)的(de)表(biao)面上測(ce)量是不可靠(kao)的(de)。
4、邊緣效應
儀器(qi)對試(shi)件表面形狀的陡變敏感。因(yin)此在(zai)靠近試(shi)件邊緣(yuan)或(huo)內轉(zhuan)角處進行(xing)測量是不可靠的。
5、試件(jian)的變(bian)形(xing)
測頭會(hui)使軟覆(fu)蓋層試(shi)件(jian)變(bian)形，因此在這些試(shi)件(jian)上測不出可靠(kao)的數據。
6、測(ce)頭壓力
測頭置于(yu)試(shi)件上(shang)所施加的(de)壓力大小會影響測量的(de)讀(du)數(shu)，因此，要保持壓力恒定。
7、附著物質
對那(nei)些妨(fang)礙(ai)測頭(tou)與覆蓋層(ceng)表面緊密接(jie)觸(chu)(chu)的附著物(wu)質敏(min)感，因此(ci)，必(bi)須清除附著物(wu)質，以保證(zheng)儀器(qi)測頭(tou)和被測試(shi)件表面直(zhi)接(jie)接(jie)觸(chu)(chu)。
8、 表面粗糙度
基體(ti)(ti)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)和(he)覆(fu)蓋層的表(biao)面(mian)粗糙(cao)程度(du)對測(ce)量有影響(xiang)。粗糙(cao)程度(du)增(zeng)大(da)，影響(xiang)增(zeng)大(da)。粗糙(cao)表(biao)面(mian)會引起系統誤(wu)差(cha)和(he)偶然(ran)誤(wu)差(cha)，每次測(ce)量時，在不(bu)同位(wei)置上應增(zeng)加測(ce)量的次數(shu)，以克服這(zhe)種偶然(ran)誤(wu)差(cha)。如(ru)果(guo)基體(ti)(ti)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)粗糙(cao)，還必須在未涂覆(fu)的粗糙(cao)度(du)相(xiang)類似的基體(ti)(ti)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)試件(jian)上取幾個位(wei)置校(xiao)對儀器的零點(dian)(dian)；或用對基體(ti)(ti)金(jin)(jin)(jin)屬(shu)沒(mei)有腐蝕的溶液溶解除去覆(fu)蓋層后，再校(xiao)對儀器的零點(dian)(dian)。
9、測(ce)頭的取向
測(ce)頭的放置方(fang)式對測(ce)量(liang)有影響。在(zai)測(ce)量(liang)中，應當使測(ce)頭與試(shi)樣表面保持(chi)垂直。
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