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保障膜厚儀測量顯示值準確性必要懂得這些小技巧

更新時間:2021-04-28      點擊次數:1126
分為手持(chi)式(shi)(shi)膜厚(hou)儀(yi)(yi)(yi)和臺式(shi)(shi)膜厚(hou)儀(yi)(yi)(yi)兩(liang)種,手持(chi)式(shi)(shi)又有磁(ci)感應鍍層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)(yi)(yi),電渦流(liu)鍍層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)(yi)(yi),熒光(guang)X射線(xian)儀(yi)(yi)(yi)鍍層(ceng)測(ce)厚(hou)儀(yi)(yi)(yi)。手持(chi)式(shi)(shi)的(de)磁(ci)感應原理時,利用(yong)從測(ce)頭(tou)經過(guo)非鐵磁(ci)覆(fu)層(ceng)而流(liu)入鐵磁(ci)基體(ti)的(de)磁(ci)通的(de)大小,來測(ce)定覆(fu)層(ceng)厚(hou)度(du)(du)。也(ye)可以(yi)測(ce)定與之對應的(de)磁(ci)阻(zu)的(de)大小,來表示(shi)其(qi)覆(fu)層(ceng)厚(hou)度(du)(du)。

臺式的熒光(guang)(guang)(guang)X射線(xian)膜厚(hou)儀(yi),是(shi)通過(guo)一次X射線(xian)穿透金屬元素樣品(pin)時·產(chan)生低能量(liang)的光(guang)(guang)(guang)子(zi),俗稱(cheng)為二次熒光(guang)(guang)(guang),,在通過(guo)計算二次熒光(guang)(guang)(guang)的能量(liang)來計算厚(hou)度值(zhi)。

保障測(ce)量顯示值準確性必要懂得(de)以下小技巧

基體金屬特性(xing)

對于(yu)渦流方法(fa),標(biao)準片基體(ti)金(jin)屬(shu)的(de)電(dian)性質,應(ying)當與(yu)試件基體(ti)金(jin)屬(shu)的(de)電(dian)性質相似(si)。
檢(jian)查基體金屬厚度(du)是否(fou)超過臨(lin)界(jie)厚度(du),無(wu)損檢(jian)測(ce)資源(yuan)網 如果(guo)沒有,可采用3.3中的(de)某(mou)種方法(fa)進行校準。
不應(ying)在緊(jin)靠試件的(de)突變處,如邊緣(yuan)、洞(dong)和(he)內(nei)轉角等處進行測量(liang)。

不應在試(shi)件(jian)的彎曲(qu)表面(mian)上測量。

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